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【特許請求の範囲】

【請求項１】
眼の周辺に装着した少なくとも３点以上の複数の電極によって検出される電位を、適宜組み合わせてその差電圧を取り出し、
取り出された複数の差電位の情報を用いて、眼球を電池とみなしたモデルで眼球の網膜側から角膜側に流れる電流密度もしくは網膜と角膜に帯電しているとみなされる電荷の大きさと、眼球位置と、電極の貼付された位置と、眼球の大きさとを推定し、
該推定した電極貼付位置と眼球半径を利用して、その後に取り出された電位差に基づき、
前記眼球位置の推定と前記電流密度の推定とを、複数の時間サイクルにわたって交互に繰り返すＥＭ（Expectation and Maximization）アルゴリズム手法を用いて、前記眼球位置と前記電流密度もしくは網膜と角膜に帯電しているとみなされる電荷の大きさの推定を行う
ことを特徴とする眼球位置計測方法。

【請求項２】
前記計測された電位から求められた電位差をデジタル信号として送信し、これを受信した受信回路に接続されたプロセッサ及びデータ処理回路において、前記眼球位置の推定と前記電流密度の推定のための計算が行われることを特徴とする請求項１に記載の眼球位置計測方法。

【請求項３】
眼の周辺に装着した少なくとも３点以上の複数の電極と、
該電極間の任意の組み合わせから複数の電極間の電位差を検出する信号変換回路と、
前記信号変換回路から抽出される電位差から、電極貼付位置と眼球を電池とみなしたモデルで眼球の網膜側から角膜側に流れる電流密度もしくは網膜と角膜に帯電しているとみなされる電荷の大きさと眼球位置とを繰り返し計算によって推定するプロセッサ及びデータ処理回路とを備え、
前記データ処理回路の計算において、ＥＭ（Expectation and Maximization）アルゴリズム手法によって、前記眼球位置の推定と、電流密度の推定とを複数サイクルにわたって計算して求める
ことを特徴とする眼球位置計測装置。

【請求項４】
前記計測された電位から求められた電位差をデジタル信号に変換して送信する送信回路と、該送信回路から有線または無線にて送られた信号を受信する受信回路とをさらに備えた請求項３に記載の眼球位置計測装置。

【特許請求の範囲】

【請求項１】
複数種類の触刺激の中から選択された所望の触刺激要素に対応する触刺激を出力し、
上記選択された触刺激要素を時系列に並べ、
上記時系列に並べられた触刺激の時系列パターンを構成し、
上記構成された触刺激の時系列パターンをユーザと対応関係を付けて登録し、
上記登録されている触刺激時系列パターンが再現されたとき、上記登録されている触刺激時系列パターンを再現したユーザを登録者本人と判定する個人認証方法であり、
上記触刺激時系列パターンの最初の触刺激要素として、全ての触刺激時系列パターンに共通の触刺激要素を配置したことを特徴とする個人認証方法。

【請求項２】
請求項１記載の個人認証方法において、
上記触刺激時系列パターンの触刺激要素の一つに触刺激の出力なしの要素を加え、
上記触刺激時系列パターンの最初の触刺激要素としての共通の触刺激要素の次に、上記触刺激の出力なしの要素を配置したことを特徴とする個人認証方法。

【請求項３】
複数種類の触刺激の中から所望の触刺激要素を選択して入力する入力手段と、
上記入力された触刺激要素に対応する触刺激を出力する触刺激手段と、
上記選択された触刺激要素を時系列に並べることにより、触刺激の時系列パターンを構成するパターン構成手段と、
上記構成された触刺激の時系列パターンをユーザと対応関係を付けて登録する登録手段と、
上記登録されている触刺激時系列パターンが上記入力手段により再現されて入力されたとき、上記登録されている触刺激時系列パターンを再現したユーザを登録者本人と判定する判定手段と、
を備え、
上記触刺激時系列パターンの最初の触刺激要素として、全ての触刺激時系列パターンに共通の触刺激要素を配置したことを特徴とする個人認証システム。

【請求項４】
請求項３記載の個人認証システムにおいて、
上記触刺激時系列パターンの触刺激要素の一つに触刺激の出力なしの要素を加え、
上記触刺激時系列パターンの最初の触刺激要素としての共通の触刺激要素の次に、上記触刺激の出力なしの要素を配置したことを特徴とする個人認証システム。

【請求項５】
入力手段により複数種類の触刺激の中から所望の触刺激要素を選択して入力された触刺激要素に対応する触刺激を触刺激手段から出力すると共に認証判定のための処理を実行するコンピュータを、
上記選択された触刺激要素を時系列に並べることにより、触刺激の時系列パターンを構成するパターン構成手段と、
上記構成された触刺激の時系列パターンをユーザと対応関係を付けて登録する登録手段と、
上記登録されている触刺激時系列パターンが上記入力手段により再現されて入力されたとき、上記登録されている触刺激時系列パターンを再現したユーザを登録者本人と判定する判定手段、
として機能させるための個人認証プログラムであり、
上記触刺激時系列パターンの最初の触刺激要素として、全ての触刺激時系列パターンに共通の触刺激要素を配置したことを特徴とする個人認証プログラム。

【請求項６】
請求項５記載の個人認証プログラムにおいて、
上記触刺激時系列パターンの触刺激要素の一つに触刺激の出力なしの要素を加え、
上記触刺激時系列パターンの最初の触刺激要素としての共通の触刺激要素の次に、上記触刺激の出力なしの要素を配置したことを特徴とする個人認証プログラム。

【特許請求の範囲】

【請求項１】
母相合金組織に直径１～３〔μｍ〕にして、かつ当該母相合金結晶組織より高硬度の第二相粒子を分散させてなる金属材料を、転位の上昇運動と消滅さらには再配列を促し、転位密度を減少させるが、粒界移動が起りにくい温度で、多軸鍛造加工することにより、上記母相合金組織の結晶粒を微細化する
ことを特徴とする金属材料製造方法。

【請求項２】
母相合金結晶組織に直径１～３〔μｍ〕にして、かつ当該母相合金結晶組織より高硬度の第二相粒子を分散させてなる金属材料を、０．４Ｔｍないし０．７Ｔｍ（Ｔｍは上記母相合金結晶組織の絶対温度の融点）の圧縮加工温度で、多軸鍛造加工することにより、上記母相合金結晶組織の結晶粒を微細化する
ことを特徴とする金属材料製造方法。

【請求項３】
母相合金結晶組織に直径１～３〔μｍ〕にして、かつ当該母相合金結晶組織より高硬度の第二相粒子を分散させてなる金属材料を、０．４Ｔｍないし０．７Ｔｍ（Ｔｍは上記母相合金結晶組織の絶対温度の融点）の圧縮加工温度で、多軸鍛造加工することにより、上記母相合金結晶組織の結晶粒を微細化する多軸鍛造手段
を具えることを特徴とする金属材料製造装置。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１方向へ移動し得る第１移動部と、当該第１方向と異なる第２方向へ移動し得る第２移動部とが一体に構成されてなる移動装置であって、
上記第１移動部は、
磁性体でなる第１基台に対して永久磁石の磁力により吸着される第１脚部と、
上記第１基台に対して永久磁石の磁力により吸着される第２脚部と、
上記第１脚部及び上記第２脚部の移動可能方向を上記第１方向に制限する第１移動方向制限部と、
上記第１方向に関する上記第１脚部と上記第２脚部との間隔を変更する第１間隔変更部と、
上記第１脚部における磁力を強化することにより上記第１基台に対する上記第１脚部の吸着力を強化する第１磁力強化手段と、
上記第２脚部における磁力を強化することにより上記第１基台に対する上記第２脚部の吸着力を強化する第２磁力強化手段と
を具え、
上記第２移動部は、
磁性体でなる第２基台に対して上記永久磁石の磁力により吸着される第３脚部と、
上記第２基台に対して上記永久磁石の磁力により吸着される第４脚部と、
上記第３脚部及び上記第４脚部の移動可能方向を上記第２方向に制限する第２移動方向制限部と、
上記第２方向に関する上記第３脚部と上記第４脚部との間隔を変更する第２間隔変更部と、
上記第３脚部における磁力を強化することにより上記第２基台に対する上記第３脚部の吸着力を強化する第３磁力強化手段と、
上記第４脚部における磁力を強化することにより上記第２基台に対する上記第４脚部の吸着力を強化する第４磁力強化手段と、
を具えることを特徴とする移動装置。
【請求項２】
上記第１間隔変更部及び上記第２間隔変更部は、
それぞれ圧電素子でなる
ことを特徴とする請求項１に記載の移動装置。
【請求項３】
上記第１移動方向制限部は、
上記第１方向に沿って上記第１基台に形成された第１溝部であり、
上記第２移動方向制限部は、
上記第２方向に沿って上記第２基台に形成された第２溝部である
ことを特徴とする請求項１に記載の移動装置。
【請求項４】
上記第１基台は、
少なくとも上記第１溝部が磁性体でなり、
上記第２基台は、
少なくとも上記第２溝部が磁性体でなる
ことを特徴とする請求項３に記載の移動装置。
【請求項５】
上記第１脚部は、
上記第１基台に対して２以上の接点により当接し、上記第１磁力強化手段により磁力が強化された際、上記第１基台との間に閉ループ磁気回路を形成し、
上記第２脚部は、
上記第１基台に対して２以上の接点により当接し、上記第２磁力強化手段により磁力が強化された際、上記第１基台との間に閉ループ磁気回路を形成し、
上記第３脚部は、
上記第２基台に対して２以上の接点により当接し、上記第３磁力強化手段により磁力が強化された際、上記第２基台との間に閉ループ磁気回路を形成し、
上記第４脚部は、
上記第２基台に対して２以上の接点により当接し、上記第４磁力強化手段により磁力が強化された際、上記第２基台との間に閉ループ磁気回路を形成する
ことを特徴とする請求項１に記載の移動装置。

（以下、詳細は特許公報をご参照ください。）

【特許請求の範囲】

【請求項１】
追跡対象となる物体の画像を取り込む画像取込手段と、
上記取り込まれた画像から、上記追跡対象の尤度モデルに基づく仮説より上記追跡対象の動作予測をしながら上記追跡対象の尤度を生成して、上記物体の追跡処理を行う追跡処理手段と、
上記生成された上記追跡対象の尤度と予め定められた閾値との比較により上記物体の追跡処理の異常状態を検知する異常状態検知手段と、
上記異常状態が一定時間継続されたときに上記追跡対象は他の追跡対象により遮蔽された状態であると判定する遮蔽状態判定手段と、
上記遮蔽状態であると判定されたときに上記尤度モデルを追加登録すると共に上記閾値を上記追加登録された回数毎に低下させて更新する尤度モデル更新手段と、
を備えたことを特徴とする物体追跡装置。

【請求項２】
上記遮蔽状態判定手段は、上記遮蔽状態であると判定された後に、最後に上記追加登録された上記尤度モデルよりも大きな尤度が生成された上記尤度モデルが存在するときに上記遮蔽状態が解消されたと判定し、
上記尤度モデル更新手段は、最大の尤度が生成された上記尤度モデルよりも後に上記追加登録された上記尤度モデルの登録をすべて削除し、上記閾値を上記削除された尤度モデルの個数毎に増大させて更新することを特徴とする請求項１に記載の物体追跡装置。

【請求項３】
追跡対象となる物体の画像から、上記追跡対象の尤度モデルに基づく仮説より上記追跡対象の動作予測をしながら上記追跡対象の尤度を生成して、上記物体の追跡処理を行う際の異常状態を検知する異常状態検知装置であって、
上記生成された上記追跡対象の尤度と予め定められた閾値との比較により上記物体の追跡処理の異常状態を検知する異常状態検知手段と、
上記異常状態が検知されたときに上記追跡対象と異なる他の追跡対象の尤度モデルを作成する尤度モデル作成手段と、
上記異常状態が一定時間継続されたときに上記追跡対象は他の追跡対象により遮蔽された状態であると判定する遮蔽状態判定手段と、
上記遮蔽状態であると判定されたときに上記作成された上記尤度モデルを追加登録すると共に上記閾値を上記追加登録された回数毎に低下させて更新する尤度モデル更新手段と、
を備えたことを特徴とする異常状態検知装置。

【請求項４】
上記遮蔽状態判定手段は、上記遮蔽状態であると判定された後に、最後に上記追加登録された上記尤度モデルよりも大きな尤度が生成された上記尤度モデルが存在するときに上記遮蔽状態が解消されたと判定し、
上記尤度モデル更新手段は、最大の尤度が生成された上記尤度モデルよりも後に上記追加登録された上記尤度モデルの登録をすべて削除し、上記閾値を上記削除された尤度モデルの個数毎に増大させて更新することを特徴とする請求項３に記載の異常状態検知装置。

【請求項５】
追跡対象となる物体の画像から、上記追跡対象の尤度モデルに基づく仮説より上記追跡対象の動作予測をしながら上記追跡対象の尤度を生成して、上記物体の追跡処理を行う追跡処理ステップと、
上記生成された上記追跡対象の尤度と予め定められた閾値との比較により上記物体の追跡処理の異常状態を検知する異常状態検知ステップと、
上記異常状態が検知されたときに上記追跡対象と異なる他の追跡対象の尤度モデルを作成する尤度モデル作成ステップと、
上記異常状態が一定時間継続されたときに上記追跡対象は他の追跡対象により遮蔽された状態であると判定する遮蔽状態判定ステップと、
上記遮蔽状態であると判定されたときに上記作成された上記尤度モデルを追加すると共に上記閾値を上記追加された回数毎に低下させて更新する尤度モデル追加ステップと、
上記遮蔽状態であると判定された後に、最後に上記追加された上記尤度モデルよりも大きな尤度が生成された上記尤度モデルが存在するときに上記遮蔽状態が解消されたと判定する遮蔽状態解消判定ステップと、
上記遮蔽状態が解消されたと判定されたときに上記尤度モデルを削除すると共に上記閾値を上記削除された上記尤度モデルの個数毎に増大させて更新する尤度モデル削除ステップと、
を含むことを特徴とする物体追跡方法。