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開放特許情報

特許情報

発明の名称 ナノファイバーフォトニック結晶の製造方法、及び、ナノファイバーフォトニック結晶の製造装置
技術分野 ものづくり, ナノテクノロジー
出願日 平成24年7月9日
出願番号 特願2012-153478
公開番号
登録番号
出願人 国立大学法人電気通信大学
発明者 白田 耕蔵
ナヤク カリ プラサンナ
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概要 【要約】 より高精度にかつより簡易に屈折率が所定パターンで変化するナノ構造体をナノ光ファイバーの表面に形成する。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
 レーザー光源からレーザー光を射出することと、前記レーザー光を分光素子で回折して、+1次の回折光及び-1次の回折光を抽出することと、前記抽出された+1次の回折光及び-1次の回折光を、それぞれ第1光学系及び第2光学系を介してナノ光ファイバーの所定領域に導いて集光し、該所定領域に光の干渉縞を生成することと、前記ナノ光ファイバーの所定領域に集光された光を、前記ナノ光ファイバーのレンズ効果によりさらに集光して、前記ナノ光ファイバーに凹部を形成することとを含むナノファイバーフォトニック結晶の製造方法。
【請求項2】
 前記凹部が、ナノ光ファイバーの光照射側とは反対側の面に形成される請求項1に記載のナノファイバーフォトニック結晶の製造方法。
【請求項3】
 前記ナノ光ファイバーの延在方向に沿って、前記ナノ光ファイバーの所定領域に光の干渉縞を生成して、複数の前記凹部を形成する請求項1又は2に記載のナノファイバーフォトニック結晶の製造方法。
【請求項4】
 前記レーザー光が、パルスレーザー光である 請求項1~3のいずれかい一項に記載のナノファイバーフォトニック結晶の製造方法。
【請求項5】
 前記レーザー光源が、フェムト秒パルスレーザーである請求項1~4のいずれか一項に記載のナノファイバーフォトニック結晶の製造方法。
【請求項6】
 前記分光素子が、位相マスクである 請求項1~5のいずれか一項に記載のナノファイバーフォトニック結晶の製造方法。
【請求項7】
 前記第1光学系及び前記第2光学系がともに、反射ミラーで構成される請求項1~6のいずれか一項に記載のナノファイバーフォトニック結晶の製造方法。
【請求項8】
 前記ナノ光ファイバーの所定領域の径が、該所定領域を伝搬する光の波長以下の値である請求項1~7のいずれか一項に記載のナノファイバーフォトニック結晶の製造方法。
【請求項9】
 レーザー光源と、前記レーザー光源から射出されたレーザー光をナノ光ファイバーの所定領域に集光する集光レンズと、前記ナノ光ファイバーの所定領域及び前記集光レンズ間に設けられ、前記集光レンズを介して入射されたレーザー光を回折して、+1次の回折光及び-1次の回折光を抽出する分光素子と、 前記ナノ光ファイバーの所定領域及び前記分光素子間に設けられ、前記分光素子で抽出された+1次の回折光を前記ナノ光ファイバーの所定領域に導く第1光学系と、 前記ナノ光ファイバーの所定領域及び前記分光素子間に設けられ、前記分光素子で抽出された-1次の回折光を前記ナノ光ファイバーの所定領域に導く第2光学系とを備えるナノファイバーフォトニック結晶の製造装置。
【請求項10】
 さらに、前記ナノ光ファイバーの所定領域及び前記位相マスク間の領域において、前記ナノ光ファイバーの所定領域の真上に設けられ、かつ、前記位相マスクで前記レーザー光を回折した際に生成される0次の回折光が前記ナノ光ファイバーの所定領域の照射されることを防止するような位置に設けられた遮蔽板を備える請求項9に記載のナノファイバーフォトニック結晶の製造装置。

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