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発明の名称

レーザー光発生装置

技術分野

ものづくり, ナノテクノロジー

出願番号

特願2004-56879

概要

【特許請求の範囲】

【請求項1】
単一縦モード波長を出力する、少なくとも2個以上の種光発生手段と、 前記種光発生手段から出力された種光を合成する合成手段と、 前記合成された種光を特定波長に同期させ、該種光毎に生成される周波数純度が良く且つ光強度の高いレーザー光を出力するレーザー光発生手段と、前記レーザー光を予め定める波長別に弁別する弁別手段と、弁別されたレーザー光を電気信号に変換し、予め設定された基準信号と比較して、該電気信号と該基準信号に差分が生じた場合には、各種光発生手段の波長又はレーザー光発生手段の実効共振器長のいずれかの値を基準とし、各種光発生手段の波長又はレーザー光発生手段の実効共振器長の各値が所定の関係になるように基準以外の値を補正値として求め、前記種光発生手段又は前記レーザー光発生手段に求めた補正値を出力して前記種光発生手段又は前記レーザー光発生手段の共振器長を駆動制御する駆動制御手段と、 を備えることを特徴とするレーザー光発生装置。

【請求項2】
単一縦モード波長を出力する少なくとも2個以上の種光発生手段と、 前記種光発生手段から出力された種光を合成する合成手段と、 前記合成された種光を特定波長に同期させ、該種光毎に生成される周波数純度が良く且つ光強度の高いレーザー光を出力するレーザー光発生手段と、 前記レーザー光を電気信号に変換する光電変換手段と、前記電気信号を予め定められる周波数の電気信号毎に弁別する電気信号弁別手段と、弁別された電気信号を、予め設定された基準信号と比較して、該基準信号と該電気信号に差分が生じた場合には、各種光発生手段の波長又はレーザー光発生手段の実効共振器長のいずれかの値を基準とし、各種光発生手段の波長又はレーザー光発生手段の実効共振器長の各値が所定の関係になるように基準以外の値を補正値として求め、各前記種光発生手段又は前記レーザー光発生手段に求めた補正値を出力して前記種光発生手段又は前記レーザー光発生手段の共振器長を駆動制御する駆動制御手段と、前記種光発生手段にレーザー光に重畳させる変調信号を前記種光発生手段に出力する変調信号発生手段と、を備えることを特徴とするレーザー光発生装置。

【請求項3】
前記種光発生手段に前記補正値を出力する場合は、該種光発生手段毎に前記駆動制御手段を設けることを特徴とする請求項1又は2記載のレーザー光発生装置。

【請求項4】
前記種光発生手段に変調信号を出力する変調信号発生手段を備えることを特徴とする請求項1記載のレーザー光発生装置。

【請求項5】
前記駆動制御手段は、前記基準信号に対する前記電気信号の変位方向と変位量に基づいて補正値を算出し、該補正値を含む補正信号を共振器長に出力することを特徴とする請求項1又は2記載のレーザー光発生装置。

【請求項6】
前記弁別手段は、前記レーザー光発生手段から出力されたレーザー光を波長毎に分光する分光手段と、分光された光を電気信号に変換する光電変換手段を有することを特徴とする請求項1記載のレーザー光発生装置。

【請求項7】
前記種光発生手段毎に前記変調信号発生手段を設けることを特徴とする請求項2記載のレーザー光発生装置。

【請求項8】
単一縦モード波長を出力する、少なくとも2個以上の種光発生手段と、前記種光発生手段から出力された種光を合成する合成手段と、前記合成された種光をもとに光ソリトン列を形成する非線形媒質と、前記非線形媒質から出力されたレーザー光をパワーオシレーターの増幅周波数領域に一致させるための高調波発生手段と、光ソリトン又はその高調波を特定波長に同期させ高出力化された光ソリトン列を発生させるレーザー光発生手段と、該レーザー光を予め定められる波長別に弁別する弁別手段と、弁別されたレーザー光を電気信号に変換する光電変換手段と、該電気信号と予め設定された基準信号と比較して、該電気信号と該基準信号に差分が生じた場合には、各種光発生手段の波長又はレーザー光発生手段の実効共振器長のいずれかの値を基準とし、各種光発生手段の波長又はレーザー光発生手段の実効共振長の各値が所定の関係になるように基準以外の値を補正値として求め、前記種光発生手段又は前記レーザー光発生手段に求めた補正値を出力して前記種光発生手段又はレーザー光発生手段の共振器長を駆動制御する手段とを備えることを特徴とするレーザー光発生装置。

※以下、詳細は特許公報をご参照ください。

発明の名称

コンピュータを用いた連携作業システム

技術分野

IT, ものづくり

出願番号

特願2003-514429

概要

特許請求の範囲】

【請求項1】
ネットワークにより接続された複数のコンピュータを用いてソリッドモデルの共有を行うための連携作業システムであって、前記複数のコンピュータは、ラッパー部とカーネル部とを備え、前記ラッパー部は、メッセージオブジェクトを受け取ると、このメッセージオブジェクトに基づいて、前記カーネル部におけるコマンドを特定して、当該コンピュータの前記カーネル部において実行させることにより、当該コンピュータでソリッドモデルを生成する構成となっており、 前記メッセージオブジェクトには、前記ソリッドモデルを生成するための前記コマンドを特定するための情報が含まれており、この情報は、前記カーネル部の種類に依存しない内容となっており、 前記メッセージオブジェクトには、さらに、前記コマンドにおける引数の情報が含まれていることを特徴とする、連携作業システム。

【請求項2】
前記メッセージオブジェクトは、前記ネットワークを介して他のコンピュータから送られたものであることを特徴とする請求項1記載の連携作業システム。

【請求項3】
前記メッセージオブジェクトは、前記ラッパー部を有するコンピュータ自身によって生成されたものであることを特徴とする請求項1又は2記載の連携作業システム。

【請求項4】
さらにエージェント部を有し、前記エージェント部は、他のコンピュータから受け取ったメッセージオブジェクトに形状情報が含まれている場合には、前記メッセージオブジェクトを前記ラッパー部に送る構成となっていることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項記載の連携作業システム。

【請求項5】
さらにエージェント部を有し、前記エージェント部は、自らのコンピュータにおいて生成したメッセージオブジェクトに形状情報が含まれている場合には、前記メッセージオブジェクトを前記ネットワーク経由で他のコンピュータに送る構成となっていることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項記載の連携作業システム。

【請求項6】
前記エージェント部は、前記メッセージオブジェクトに形状情報が含まれていない場合には、前記メッセージオブジェクトに含まれる非形状情報に基づいて、前記メッセージオブジェクトを他のコンピュータに送るか否かの判断を行う構成となっていることを特徴とする請求項1~5のいずれか1項記載の連携作業システム。

【請求項7】
さらにエージェント部とユーザインタフェース部とを有し、前記エージェント部は、前記ユーザインタフェース部からの入力に基づいて前記メッセージオブジェクトを生成する構成となっていることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項記載の連携作業システム。

【請求項8】
請求項1~7のいずれか1項記載の連携作業システムにおける前記コンピュータ。

【請求項9】
請求項1~7のいずれか1項記載の連携作業システムにおける前記ラッパー部。

【請求項10】
請求項4~7のいずれか1項記載の連携作業システムにおける前記エージェント部。

【請求項11】
ネットワークにより接続された複数のコンピュータを用いてソリッドモデルの共有を行うための連携作業方法であって、前記コンピュータは、メッセージオブジェクトを受け取ると、このメッセージオブジェクトに基づいてコマンドを特定し、このコマンドを当該コンピュータにおいて実行することにより、当該コンピュータでソリッドモデルを生成する構成となっており、 前記メッセージオブジェクトには、前記ソリッドモデルを生成するための前記コマンドを特定するための情報が含まれており、この情報は、前記カーネル部の種類に依存しない内容となっており、 前記メッセージオブジェクトには、さらに、前記コマンドにおける引数の情報が含まれていることを特徴とする連携作業方法。

【請求項12】
請求項1~7記載の連携作業システム、請求項8記載のコンピュータ、請求項9記載のラッパー部または請求項10記載のエージェント部のいずれかをコンピュータにより構成させるための、コンピュータにより実行可能なプログラム。

【請求項13】
請求項11記載の連携作業方法をコンピュータにより実行させるための、コンピュータによる利用または読み取り可能なプログラム。

発明の名称

流量測定方法およびそれに用いる測定装置

技術分野

ものづくり

出願番号

特願2004-043386

概要

【特許請求の範囲】

【請求項1】
次のステップを含むことを特徴とする流量測定方法:
(1)流路内を流れる流体を加熱または冷却するステップ;
(2)前記流体を加熱または冷却した位置よりも下流側において、前記流体に対して光を照射するステップ;
(3)前記流体における前記光の吸光度スペクトルを検出するステップ;
(4)前記吸光度スペクトルにおける、波長方向でのピーク位置の変動に基づいて、前記加熱または冷却された流体の到着時点を検出し、この到着時点を用いて、既定の位置から前記光の吸光度スペクトルを検出した位置まで前記流体が到達するまでの所要時間を算出することにより、前記流体の流量を検出するステップ。

【請求項2】
次のステップを含むことを特徴とする流量測定方法:
(1)流路内を流れる流体を加熱または冷却するステップ;
(2)前記流体を加熱または冷却した位置よりも下流側において、前記流体に対して複数の位置で光を照射するステップ;
(3)前記複数の位置において、前記流体における前記光の吸光度スペクトルを検出するステップ;
(4)前記複数の位置における前記吸光度スペクトルの、波長方向でのピーク位置の変動に基づいて、前記加熱または冷却された流体が前記複数の位置を順次通過するための所要時間を求め、この所要時間に基づいて前記流体の流量を検出するステップ。

【請求項3】
前記加熱又は冷却された流体の到着時点の検出は、前記波長方向でのピーク位置の変動と前記流体の温度変化量との関係を示す、予め取得された検量線に基づいて行われることを特徴とする請求項1に記載の流量測定方法。

【請求項4】
前記流体は、水を含む液体であり、前記流体に照射される光の波長帯域は、1400~1500nmの帯域を含むことを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載の流量測定方法。

【請求項5】
前記流体は、水を含む液体であり、前記流体に照射される光の波長帯域は、1414nmまたは1463nm付近の帯域を含むことを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載の流量測定方法。

【請求項6】
前記流体は、水を含む液体であり、
前記流体に照射される光の波長帯域は、1414nmおよび1463nm付近の帯域を含んでおり、
前記波長方向でのピーク位置の変動は、1414nm付近での波長における出力の差分と、1463nm付近での波長における出力の差分を用いて判定される
ことを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載の流量測定方法。

【請求項7】
前記流体の加熱は、透過光強度が入射光強度の約30~80%である波長を有する光によって行われることを特徴とする請求項1~6のいずれか1項記載の流量測定方法。

【請求項8】
流路と、温度変化部と、検出部とを備えており、前記流路は、その内部における流体の移動を許容するものであり、前記温度変化部は、前記流路内を流れる流体を加熱または冷却するものであり、前記検出部は、前記流体の流れ方向において、前記温度変化部よりも下流側に配置されており、さらに、前記検出部は、発光部と受光部と解析部とを備えており、前記受光部は、前記発光部において発せられ、かつ、前記流体を通過または拡散反射した光を受光するものであり、前記解析部は、前記受光部で受光した光の吸光度スペクトルにおける、波長方向でのピーク位置の変動に基づいて、前記加熱または冷却された流体の到着時点を解析し、この到着時点を用いて、既定の位置から前記光の照射位置まで前記流体が到達するための所要時間を算出するものであることを特徴とする流量測定装置。

【請求項9】
前記流体は、水を含む液体であり、
前記発光部は、1400~1500nmの波長帯域を含む光を前記流体に照射するものであることを特徴とする請求項8に記載の流量測定装置。

【請求項10】
前記発光部から前記流体に照射される光の波長帯域は、1414nmまたは1463nm付近の帯域を含むことを特徴とする請求項8に記載の流量測定装置。

【請求項11】
前記流体は、水を含む液体であり、
前記発光部から前記流体に照射される光の波長帯域は、1414nmおよび1463nm付近の帯域を含んでおり、
前記解析部は、1414nm付近でのピークの波長における出力の差分と、1463nm付近でのピークの波長における出力の差分を用いて、前記加熱または冷却された流体の到達時点を解析するものであることを特徴とする請求項8に記載の流量測定装置。

発明の名称

熱可塑性樹脂の溶着方法

技術分野

ものづくり

出願番号

PCT/JP02/11600

概要

【特許請求の範囲】

【請求項1】
ともに赤外線吸収性の少なくとも2個の熱可塑性樹脂成形体を互いに接触配置して、一方の樹脂成形体側から赤外線を照射するに際して、樹脂成形体の接触部の温度をTiとし、赤外線照射側の赤外線照射側表面温度をTsとし、最も低い軟化温度を有する樹脂成形体の軟化温度をTmとし、赤外線を照射する側の樹脂成形体の軟化温度をTmaとしたときに下記の条件
(数1)
Ts<Tma (i)
Ti>Tm (ii)
を満足するように照射条件を設定し、かつ赤外線照射側樹脂成形体の表面側に液体または固体である放熱材を接触配置することを特徴とする熱可塑性樹脂成形体の溶着方法。

【請求項2】
放熱材がない場合の赤外線照射側樹脂成形体の赤外線照射側表面温度をTs2とし、放熱材がない場合の核樹脂成形体の温度をTi2とし、最も低い軟化温度を有する樹脂成形体の軟化温度をTmとして赤外線を照射する側の樹脂成形体の軟化温度をTmaとしたときに、下記の条件
(数2)
Ts2>Ti2≧Tm (III)
を満足するように照射を行うことを特徴とする請求項1に記載の方法。

【請求項3】
放熱材が固体状の赤外線透過部を有していることを特徴とする請求項1または2に記載の方法。

【請求項4】
放熱材の熱伝導度が27℃において1OW/m・℃であることを特徴とする請求項3に記載の方法。

【請求項5】
赤外線が炭酸ガスレーザーであることを特徴とする請求項1~4のいずれかひとつに記載の方法。

発明の名称

高調波処理回路およびそれを用いた増幅回路

技術分野

ものづくり

出願番号

特願2002-034513

概要

【特許請求の範囲】

【請求項1】
増幅用トランジスタの出力端子と負荷抵抗との間に接続されて、前記トランジスタの出力端子に現れる高調波を処理するための回路であって、前記増幅用トランジスタの出力が入力され、かつ、前記増幅用トランジスタの出力における基本波の波長(λ)の1/4の長さを有する第1伝送線路と、前記第1伝送線路の出力端子に互いに並列に接続された複数の第1スタブとを有し、
前記複数の第1スタブは、
L=λ/4m (ただし、m=2,3,4,…,n)
で表される伝送線路長Lを各々有しており、
かつ、
m'=pk (ただし、pは3以上の奇数、kは、前記mのうちで現に設けられている第1スタブにおけるm)で表されるm'に対応する伝送線路長を有する前記第1スタブのいずれかまたはすべての設置は省略されており、 さらに合成補償スタブを備え、前記合成補償スタブは、前記第1伝送線路の出力端子に接続されており、基本波に対する前記合成補償スタブのアドミタンスは、前記第1スタブの合成入力アドミタンスと大きさが等しくかつ逆符号とされていることを特徴とする高調波処理回路。

【請求項2】
前記合成補償スタブは、先端開放であることを特徴とする請求項1記載の高調波処理回路。

【請求項3】
前記合成補償スタブは、先端短絡であることを特徴とする請求項1記載の高調波処理回路。

【請求項4】
前記第1の伝送線路の出力端子と前記負荷抵抗との間に接続され、かつ、前記基本波の波長(λ)の1/4の長さを有する第2伝送線路をさらに備えたことを特徴とする請求項1~3のいずれか1項記載の高調波処理回路。

【請求項5】
前記増幅用トランジスタに代えて、負性抵抗2端子増幅素子が用いられていることを特徴とする請求項1~4のいずれか1項記載の高調波処理回路。

【請求項6】
増幅用トランジスタの出力端子と負荷抵抗との間に接続されて、前記トランジスタの出力端子に現れる高調波を処理するための回路であって、前記増幅用トランジスタの出力が入力される入力端子と、前記増幅用トランジスタの出力における基本波の波長(λ)の1/4の長さを有する第1伝送線路と、前記第1の伝送線路の出力端子に互いに並列に接続された複数の第1スタブとを有し、
前記複数の第1スタブは、
L=λ/4m (ただし、m=2,3,4,…,n)
で表される伝送線路長Lを各々有するものであり、
さらに合成補償スタブを備え、前記合成補償スタブは、前記第1伝送線路の出力端子に接続されており、基本波に対する前記合成補償スタブのアドミタンスは、前記第1スタブの合成入力アドミタンスと大きさが等しくかつ逆符号とされていることを特徴とする高調波処理回路。

【請求項7】
前記合成補償スタブに代えて、前記第1の伝送線路の出力端子に接続され、かつ、前記第1スタブの合成入力アドミタンスと大きさが等しくかつ逆符号であるリアクタンス素子を有することを特徴とする請求項1に記載の高調波処理回路。

【請求項8】
請求項1~7のいずれか1項に記載の高調波処理回路における前記第1の伝送線路の入力端子が、前記増幅用トランジスタの出力端子に接続されていることを特徴とする増幅回路。

発明の名称

パラジウム触媒を用いた選択的水素添加反応方法

技術分野

環境/有機化学/無機化学, ナノテクノロジー

出願番号

特願2002-33258

概要

【特許請求の範囲】

【請求項1】

 陽極及び導電性を有する支持体を含んで成る陰極を用いてパラジウムイオンを含む溶液を電解することにより得られた、導電性支持体上に担持されたパラジウムブラックの存在下、A)炭素-炭素一置換二重結合、炭素-炭素二置換二重結合及び炭素-炭素三重結合から選ばれた少なくとも1つと炭素-炭素三置換二重結合及び/又は炭素-炭素四置換二重結合を有する化合物、B)炭素-炭素一置換二重結合、炭素-炭素二置換二重結合及び炭素-炭素三重結合から選ばれた少なくとも1つを有する化合物及びC)炭素-炭素三置換二重結合及び/又は炭素-炭素四置換二重結合を有する化合物から成る群より、炭素-炭素一置換二重結合、炭素-炭素二置換二重結合及び炭素-炭素三重結合から選ばれた少なくとも1つと炭素-炭素三置換二重結合及び/又は炭素-炭素四置換二重結合とが共存するように選択された化合物若しくはその組み合わせと、水素とを接触させることを特徴とする、当該炭素-炭素一置換二重結合、炭素-炭素二置換二重結合及び/又は炭素-炭素三重結合の選択的水素添加反応方法。

【請求項2】

 陽極及び導電性を有する支持体を含んで成る陰極を用いてパラジウムイオンを含む溶液を電解することにより得られた導電性を含んで成る支持体上に担持されたパラジウムブラックから成る、炭素-炭素三置換二重結合及び炭素-炭素四置換二重結合への水素添加反応を伴うことのない、炭素-炭素一置換二重結合、炭素-炭素二置換二重結合及び/又は炭素-炭素三重結合の選択的水素添加反応用触媒。

発明の名称

樹脂成型品の分子配向除去方法と装置

技術分野

ものづくり

出願番号

樹脂成形品の分子配向除去方法と装置 特願2001-076181

概要

【要約】

【課題】樹脂成形品において加熱による残留分子配向の除去を短時間で行い、高い処理効率で製品の表面平坦度を向上させる。

【解決手段】成形品金型1の一部に少なくとも1個の赤外線透過窓3を形成し、該透過窓3にその表面が対面するごとくに樹脂成形品Pを金型1内に挿入してその姿勢を固定し、該透過窓を指向するごとくに少なくとも1個の赤外線照射源を配置して、該照射源から透過窓を介して成形品の表面に赤外線を照射する。

【特許請求の範囲】

【請求項1】 一部に少なくとも1個の赤外線透過窓を形成した成形品金型を用意し、該透過窓にその表面が対面するごとくに樹脂成形品を金型内に挿入してその姿勢を固定し、該透過窓を介して成形品の表面に赤外線を照射することを特徴とする樹脂成形品の分子配向除去方法。

【請求項2】 樹脂成形品の片面に赤外線を照射することを特徴とする請求項1に記載の方法。

【請求項3】 樹脂成形品の両面に赤外線を照射することを特徴とする請求項1に記載の方法。

【請求項4】 被照射面中心が成形品材料の変形温度以上となる温度まで赤外線照射を行うことを特徴とする請求項1~3のいずれかひとつに記載の方法。

【請求項5】 挿入されるべき成形品の表面に対応する部位に形成された少なくとも1個の赤外線透過材料からなる透過窓を有した金型と該透過窓を指向する少なくとも1個の赤外線照射源を有することを特徴とする樹脂成形品の分子配向除去装置。